Enel e la multinazionale giapponese Sharp hanno firmato un’intesa che prevede la costruzione di campi fotovoltaici per 161 Mw di energia e di una fabbrica per la produzione dell’ultima generazione di pannelli fotovoltaici, il modello del film sottile a tripla giunzione.
L’installazione di impianti per la produzione di 161 Mw di energia è previsto per il 2001, distribuito per tutto il paese.
Non è ancora deciso dove sorgerà l'impianto industriale per la produzione integrata di pannelli fotovoltaici basati sulla tecnologia di Sharp, un avanguardistico film sottile a tripla giunzione. Si parla di una località vicino a un porto, perché i pannelli serviranno anche per l’export. Si tratta di un tipo di pannello presentato ampiamente nella fiera sul Solare che ha avuto luogo a Milano nel settembre 2007. Rispetto ai moduli tradizionali in silicio cristallino questi film sottili richiedono un uso molto minore di silicio, con evidenti risparmi economici per l'utente, garantendo però prestazioni di efficienza molto simili a quelle dei moduli tradizionali. Il silicio, oltre ad essere costoso, è anche un materiale che scarseggia sul mercato, rallentando spesso il ritmo di produzione di pannelli fotovoltaici.